‏كربن فعال با توجه به سطح ويژه بسيار بالاي آن و پايداري در دماهاي زياد، البته در محيط هاي غير اكسيدي، كاربرد فراواني دارد. در بسياري از منابع از روش رسوب گذاري تر، به علت ارزاني و سادگي، براي نشاندن فلزات فعال كاتاليستي بر روي سطح كربن فعال استفاده كرده اند. در اين اختراع روشي نوين در نشاندن ذرات كاتاليستي استفاده شده بدين صورت كه به جاي استفاده از كربن فعال از كربن حاصل از خشك كردن و متعاقب آن تجزيه و كربناسيون يك رزين فنولي بهره گرفته شده است و در عمليات توليد كربن فعال و نشاندن فلزات فعال در يك فرايند تجميع شده اند. در نهايت امر نتايج اين روش و روش رسوب گذاري بر روي بستر كربن فعال با هم مقايسه گشته و اين نتيجه حاصل شد كه روش پيش رو نتايج مطلوب تر و هزينه بسيار كمتري را دربر خواهد داشت.

‏كاربيد سيليسيوم بدليل خواص مكانيكي و حرارتي مطلوب، به عنوان ماده اصلي و يا تقويت كننده به طور گسترده ‏در بسياري از صنايع مورد مصرف قرار مي گيرد. در اين اختراع روش CVD ‏معمولي انتخاب گرديده و با مواد اوليه كربن فعال گاز هيدروژن و تتراكلريد سيليسيوم نانو الياف SiC ‏بو روي سطح كربن SIC ‏توليد شده است. از كاتاليست در اين اختراع به منظور تسريع در روند انجام واكنش استفاده گرديده. با بهره گيري از يك راكتور بستر ثابت و در فشار اتمسفريك نانو اليافي با طول بيش از ٢٠٠ ‏- ۵٠ ‏ميكرو متر و قطري كمتر از 160 نانو مترتوليد شده اند.